Моделирующая маска pH BALANCING CHLORELLA MODELING MASK с хлореллой мягко успокаивает раздраженную кожу, очищает ее и делает ее здоровой. В сухой биомассе хлореллы содержится 40– 55% белка, 35% углеводов, 5-10% липидов и до 10% минеральных веществ. Кроме того, в белках хлореллы насчитывается более 40 аминокислот, половина из которых — незаменимые, и всё  это богатство  сделали основным ингредиентом моделирующей маски pH BALANCING CHLORELLA MODELING MASK. Экстракт листьев сирени уменьшает повреждения, нанесенные   коже   факторами   окружающей   среды,   нормализует   клеточный обмен веществ, влияет на производство и выделение кожного сала, поэтому эффективно предотвращает возникновение угревой сыпи.

Обладает мощной противовоспалительной активностью и легкими дубильными свойствами, эффективно стягивает поры, очищает кожу при гнойничковой сыпи любого происхождения, подавляет рост грибковых возбудителей.

Способ применения: Смешайте порошок с водой в пропорции 1:1,5, лопаткой нанесите на все лицо, оставьте на 20-30 минут и снимите начиная с подбородка. (рекомендуется для одноразового использования 25 гр). 

 

Активный ингредиент: хлорелла , экстракт листьев сирени, экстракт прополиса.

Объем: 1000 гр.